氣體純化設(shè)備介紹

氣體純化設(shè)備中高純氣體氬氣純化裝置。氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣體，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個(gè)議題。通過對(duì)本裝置的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時(shí)，水分也小于1ppm時(shí)，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達(dá)到要求，贏得客戶的滿意和市場(chǎng)的需求。

由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時(shí)氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍，使用氬氣的客戶不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進(jìn)入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。

凈化則采用了世界先進(jìn)的凈化材料。其特點(diǎn)有吸附深度好，吸收雜質(zhì)氣體量大的特點(diǎn)，純度可達(dá)99.9999%以上。并安裝了小于1μ的金屬過濾器。保證了氣體粉末的要求。設(shè)備中全部容器、管道、閥門均為不銹鋼材質(zhì)。設(shè)備中的主要控制儀表全部采用國(guó)內(nèi)外產(chǎn)品。接頭采用高純接頭,保證了無滲透。外觀設(shè)計(jì)采用流行顏色及形式,使產(chǎn)品更美觀。設(shè)備可根據(jù)客戶要求在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測(cè)。避免了因設(shè)備問題的損失。本設(shè)備在金屬保護(hù)行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等的配套使用設(shè)備，得到了廣泛的應(yīng)用。