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當(dāng)咱們?cè)谑褂霉に嚉怏w來進(jìn)行作業(yè)時(shí),其實(shí)都是經(jīng)過了重重的檢測后才能正式銷售的。其中就有幾種比較常見的檢驗(yàn)方法。選用背壓法檢漏時(shí),氣體提純公司首要將被檢產(chǎn)品置于高壓的氦氣室中,浸泡數(shù)小時(shí)或數(shù)天,假如被檢產(chǎn)品外表有漏孔,濟(jì)源氣體提純氦氣便經(jīng)過漏孔壓入被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔中,使內(nèi)部密封腔中氦分壓力上升。取出被檢產(chǎn)品,將外表的剩余氦氣吹除后再將被檢產(chǎn)品放入與檢漏儀相連的真空容器內(nèi),被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔內(nèi)的氦氣會(huì)經(jīng)過漏孔走漏到真空容器,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,然后完成被檢產(chǎn)品總漏率丈量。檢漏儀給出的漏率值為丈量漏率,需求經(jīng)過換算公式計(jì)算出被檢產(chǎn)品的等效規(guī)范漏率。
半導(dǎo)體器件變得越來越小,幾何結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,使用的材料越來越多,給工藝氣體的純度帶來了更大的挑戰(zhàn)。更多的工藝步驟意味著消耗更多的工藝氣體?,F(xiàn)在,即使氣體供應(yīng)中有微量污染物,也會(huì)對(duì)芯片性能產(chǎn)生不可忽略的影響。因此,工藝氣體凈化顯的日益重要。濟(jì)源氣體提純氣體和化學(xué)品的純度在先進(jìn)半導(dǎo)體和存儲(chǔ)設(shè)備的性能和可靠性方面發(fā)揮著重要作用。氣體提純公司為了保持競爭力,許多半導(dǎo)體制造商提高了產(chǎn)量,從而增加了氣體的總消耗量。因此,對(duì)污染物采取必要的凈化措施勢(shì)在必行。
氣體提純系統(tǒng)氣體凈化提純系統(tǒng)將沼氣通過初步除水后,進(jìn)入脫硫系統(tǒng),脫硫后的氣體除塵后加壓進(jìn)入吸收塔,在特定的吸收劑和反應(yīng)條件下,氣體提純公司調(diào)整氣體中甲烷濃度到90%,同時(shí)全部或部分除去氨、氮氧化物、硅氧烷等多種雜質(zhì)。氣體得到調(diào)整和凈化后,濟(jì)源氣體提純經(jīng)冷卻、分離送入天然氣管網(wǎng);溶液經(jīng)自凈系統(tǒng)將雜質(zhì)分離出來,并在再生系統(tǒng)解吸出純度大于等于95%的二氧碳?xì)怏w。
由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時(shí)氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍,使用氬氣的客戶不知道其質(zhì)量,所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。定制氣體提純有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何,氣體提純公司只要經(jīng)過純化裝置的處理后,進(jìn)入拉晶爐的氬氣,純度始終是恒定的。
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