清遠供應氮氣純化公司

清遠氮氣純化催化劑：可以催化H2，CO，烴類等還原性氣體與O2結合生成水和CO2，一般用在雜質(zhì)含量較高時，預處理掉大量的雜質(zhì)。脫氧吸附劑：可以以化學反應的方式去除掉O2，以物理吸附方式去除掉水和CO2。一般經(jīng)此工序后產(chǎn)氣的純度已經(jīng)足夠使用了。供應氮氣純化吸氣劑：吸氣劑可以去除掉除了氬氣，氦氣等惰性氣體以外的所有氣體。（有些特制吸氣劑也不會吸收H2）主要針對N2，CH4等。

目前主流的氦氣提純的方法主要有低溫精餾法、選擇吸附法、化學反應法、薄膜擴散法。供應氮氣純化低溫精餾法是利用氣體的物理性質(zhì)的差異既每種氣體的沸點和凝固點不一樣，在低溫下冷凝獲得不同的氣體的組分，將氦氣的雜質(zhì)剔除。選擇吸附法則很容易理解，通過吸附劑對于每種雜質(zhì)吸附能力的不同，利用類似于“過濾”的原理，氮氣純化公司將氦氣提純，這種氦氣提純的方法一般使用硅膠、分子篩等作為吸附劑。

氣體提純系統(tǒng)氣體凈化提純系統(tǒng)將沼氣通過初步除水后，進入脫硫系統(tǒng)，脫硫后的氣體除塵后加壓進入吸收塔，在特定的吸收劑和反應條件下，氮氣純化公司調(diào)整氣體中甲烷濃度到90%，同時全部或部分除去氨、氮氧化物、硅氧烷等多種雜質(zhì)。氣體得到調(diào)整和凈化后，清遠氮氣純化經(jīng)冷卻、分離送入天然氣管網(wǎng)；溶液經(jīng)自凈系統(tǒng)將雜質(zhì)分離出來，并在再生系統(tǒng)解吸出純度大于等于95%的二氧碳氣體。

氦氣提純是一項國際前沿研究領域，供應氮氣純化采用的方法有低溫冷凝、膜分離、變壓吸附、化學吸附等方法。我國企業(yè)在低溫研究的基礎上，突破低溫冷凝分離法的研究技術瓶頸，氮氣純化公司開發(fā)工業(yè)氦氣膜分離提純技術和設備，與國際巨頭在氦氣提純技術和設備方面展開競爭，并積極研究膜分離+低溫分離的復合氦氣分離方法，結合膜分離高效性和低溫分離高回收率和高純度的特點，將氦氣首先經(jīng)過膜分離技術進行粗提純，然后采用低溫分離技術進行精提純，滿足工業(yè)領域節(jié)能與高純的多重需要。

半導體器件變得越來越小，幾何結構越來越復雜，使用的材料越來越多，給工藝氣體的純度帶來了更大的挑戰(zhàn)。更多的工藝步驟意味著消耗更多的工藝氣體?，F(xiàn)在，即使氣體供應中有微量污染物，也會對芯片性能產(chǎn)生不可忽略的影響。因此，工藝氣體凈化顯的日益重要。清遠氮氣純化氣體和化學品的純度在先進半導體和存儲設備的性能和可靠性方面發(fā)揮著重要作用。氮氣純化公司為了保持競爭力，許多半導體制造商提高了產(chǎn)量，從而增加了氣體的總消耗量。因此，對污染物采取必要的凈化措施勢在必行。